Odav hinnakiri spetsiaalsetele gaasidele Hiina tarnib elektron-/pooljuhtide klassi 99,999% puhtusastmega süsiniktetrafluoriidi/tetrafluorometaani CF4 gaasi hinda

„Siirus, innovatsioon, rangus ja tõhusus” on meie organisatsiooni pikaajaline eesmärk teha klientidega koostööd vastastikuse vastastikkuse ja vastastikuse kasu saamiseks Hiina erigaaside odava hinnakirja osas. Hiina tarnib elektron-/pooljuhtide klassi 99,999% puhtusastmega süsiniktetrafluoriidi/tetrafluorometaani CF4 gaasi. Noore ja areneva ettevõttena ei pruugi me olla parimad, kuid anname endast parima, et olla teie parim partner.
„Siirus, innovatsioon, rangus ja efektiivsus” võivad olla meie organisatsiooni püsiv kontseptsioon, et luua klientidega pikaajaline koostöö vastastikuse vastastikkuse ja vastastikuse kasu nimel.Hiina CF4 ja CF4 gaas„Loo väärtusi, teeninda klienti!“ on meie eesmärk. Loodame siiralt, et kõik kliendid loovad meiega pikaajalise ja vastastikku kasuliku koostöö. Kui soovite meie ettevõtte kohta lisateavet saada, võtke meiega kindlasti kohe ühendust!

Tehnilised parameetrid

Süsiniktetrafluoriid on halogeenitud süsivesinik keemilise valemiga CF4. Seda võib pidada halogeenitud süsivesinikuks, halogeenitud metaaniks, perfluorosüsinikuks või anorgaaniliseks ühendiks. Süsiniktetrafluoriid on värvitu ja lõhnatu gaas, mis ei lahustu vees, lahustub benseenis ja kloroformis. Stabiilne normaalsel temperatuuril ja rõhul, vältige tugevaid oksüdeerijaid, tuleohtlikke või põlevaid materjale. Mittesüttiv gaas, anuma siserõhk suureneb kõrge kuumusega kokkupuutel ning on pragunemise ja plahvatuse oht. See on keemiliselt stabiilne ja mittesüttiv. Toatemperatuuril saab toimida ainult vedel ammoniaak-naatriummetallreagent. Süsiniktetrafluoriid on kasvuhooneefekti tekitav gaas. See on väga stabiilne, võib atmosfääris pikka aega püsida ja on väga võimas kasvuhoonegaas. Süsiniktetrafluoriidi kasutatakse mitmesuguste integraallülituste plasma söövitusprotsessis. Seda kasutatakse ka lasergaasina ning madalatemperatuurilistes külmaainetes, lahustites, määrdeainetes, isoleermaterjalides ja infrapunadetektorite jahutusvedelikes. See on mikroelektroonikatööstuses enimkasutatav plasma söövitusgaas. See on segu tetrafluorometaanist kõrge puhtusastmega gaasist ja tetrafluorometaanist kõrge puhtusastmega gaasist ning kõrge puhtusastmega hapnikust. Seda saab laialdaselt kasutada räni, ränidioksiidi, räninitriidi ja fosfosilikaatklaasi tootmisel. Õhukeste kilematerjalide, näiteks volframi ja volframi söövitamist kasutatakse laialdaselt ka elektroonikaseadmete pinnapuhastuses, päikesepatareide tootmises, lasertehnoloogias, madalatemperatuurilises külmutuses, lekkekontrollis ja trükkplaatide tootmises pesuvahendina. Kasutatakse integraallülituste madalatemperatuurilise külmutusagensina ja plasma kuivsöövitustehnoloogiana. Säilitamise ettevaatusabinõud: Hoida jahedas, ventileeritavas mittesüttivas gaasilaos. Hoida eemal tulest ja soojusallikatest. Säilitustemperatuur ei tohiks ületada 30 °C. Seda tuleks hoida eraldi kergesti (süttivatest) süttivatest materjalidest ja oksüdeerijatest ning vältida segahoidmist. Ladustamisala peaks olema varustatud lekke korral hädaolukorra lahendamise seadmetega.

Rakendus:

① Külmutusagens:

Tetrafluorometaani kasutatakse mõnikord madala temperatuuriga külmutusagensina.

② Söövitamine:

Seda kasutatakse elektroonika mikrotootmises üksi või koos hapnikuga räni, ränidioksiidi ja räninitriidi plasma söövitusainena.

Tavaline pakett:

Eelis:

①Kõrge puhtusastmega, uusim rajatis;

②ISO sertifikaadiga tootja;

③Kiire kohaletoimetamine;

④On-line analüüsisüsteem kvaliteedikontrolliks igal sammul;

⑤Silindri käitlemise enne täitmist on kõrge nõue ja hoolikas protsess;