Hiina erigaaside odava hinnakiri, 99,999% puhtusega süsiniktetrafluoriid/tetrafluorometaan CF4 gaasi hind.

"Siirus, uuendusmeelsus, rangus ja tõhusus" võib olla meie organisatsiooni püsiv kontseptsioon pikaks ajaks, et luua koos klientidega vastastikune vastastikkus ja kasu Hiina erigaaside tarneelektronide/pooljuhtide klassi 99,999% puhtusastmega süsiniku jaoks. Tetrafluoride/Tetrafluoromehane CF4 Gas Price, Kuna me oleme noor arenev ettevõte, ei pruugi me olla kõige tõhusamad, kuid anname endast parima, et üldiselt olla teie fantastiline partner.
"Siirus, uuendusmeelsus, rangus ja tõhusus" võib olla meie organisatsiooni püsiv kontseptsioon pikaks ajaks luua koos klientidega vastastikuse vastastikkuse ja vastastikuse kasu saamiseks.Hiina CF4 ja CF4 gaas, "Loo väärtusi, teenindage klienti!" on eesmärk, mida me taotleme. Loodame siiralt, et kõik kliendid loovad meiega pikaajalise ja vastastikku kasuliku koostöö. Kui soovite meie ettevõtte kohta rohkem üksikasju saada, võtke meiega kohe ühendust!

Tehnilised parameetrid

Süsiniktetrafluoriid on halogeenitud süsivesinik keemilise valemiga CF4. Seda võib pidada halogeenitud süsivesinikuks, halogeenitud metaaniks, perfluorosüsinikuks või anorgaaniliseks ühendiks. Süsiniktetrafluoriid on värvitu ja lõhnatu gaas, mis ei lahustu vees, lahustub benseenis ja kloroformis. Stabiilne normaalsel temperatuuril ja rõhul, vältige tugevaid oksüdeerijaid, tuleohtlikke või põlevaid materjale. Mittesüttiv gaas, suure kuumusega kokkupuutel suureneb mahuti siserõhk ning tekib pragunemis- ja plahvatusoht. See on keemiliselt stabiilne ja mittesüttiv. Toatemperatuuril võib töötada ainult vedel ammoniaagi-naatriummetalli reaktiiv. Süsiniktetrafluoriid on gaas, mis põhjustab kasvuhooneefekti. See on väga stabiilne, püsib atmosfääris pikka aega ja on väga võimas kasvuhoonegaas. Süsiniktetrafluoriidi kasutatakse mitmesuguste integraallülituste plasmasöövitamise protsessis. Seda kasutatakse ka lasergaasina ning seda kasutatakse madalatemperatuurilistes külmutusagensides, lahustites, määrdeainetes, isoleermaterjalides ja infrapunadetektorite jahutusvedelikes. See on mikroelektroonikatööstuses enimkasutatav plasmasöövitusgaas. See on tetrafluorometaani kõrge puhtusastmega gaasi ja tetrafluorometaani kõrge puhtusastmega gaasi ning kõrge puhtusastmega hapniku segu. Seda saab laialdaselt kasutada ränis, ränidioksiidis, räninitriidis ja fosfosilikaatklaasis. Õhukeste kilematerjalide, nagu volfram ja volfram, söövitamist kasutatakse laialdaselt ka elektroonikaseadmete pindade puhastamisel, päikesepatareide tootmisel, lasertehnoloogial, madala temperatuuriga jahutuses, lekkekontrollis ja trükkplaatide tootmisel. Kasutatakse integraallülituste madala temperatuuriga külmutusagensi ja plasma kuivsöövitustehnoloogiana. Ettevaatusabinõud ladustamisel: Hoida jahedas, ventileeritavas mittesüttiva gaasi laos. Hoida eemal tulest ja soojusallikatest. Säilitustemperatuur ei tohi ületada 30°C. Seda tuleks hoida eraldi kergestisüttivatest ainetest ja oksüdeerijatest ning vältida segahoidmist. Ladustamisala peaks olema varustatud lekke hädaabiseadmetega.

Rakendus:

① Külmutusagens:

Tetrafluorometaani kasutatakse mõnikord madala temperatuuriga külmutusagensina.

② Söövitus:

Seda kasutatakse elektroonika mikrotootmises üksi või koos hapnikuga räni, ränidioksiidi ja räninitriidi plasmasöövitajana.

Tavaline pakett:

Eelis:

①Kõrge puhtusastmega, uusim rajatis;

②ISO sertifikaadi tootja;

③ kiire kohaletoimetamine;

④On-line analüüsisüsteem kvaliteedikontrolliks igal sammul;

⑤ Kõrged nõuded ja hoolikas protsess silindri käsitsemiseks enne täitmist;