Hiina tehasehind 99,9999% kõrge puhtus Sih4 Gaas silaangaas pooljuhtme sadestumisprotsessi jaoks

Pole tähtis uus klient või eelmine klient, usume Hiina pikaajalisse ajaperioodi ja usaldusväärsetesse suhetesse 99,9999% kõrge puhtus Sih4 gaasSilaangaasPooljuhi sadestamise protsessi jaoks tervitame uusi ja vanu ostjaid, et meiega ühendust võtta telefoni teel või saadame USA järelepärimisi posti teel lähituleviku ühingutele ja vastastikuste saavutuste saavutamisele.
Pole tähtis uus klient või eelmine klient, usume pikaajalisse ajaperioodi ja usaldusväärsetesse suhetesseHiina SIH4, Silaangaas, Et täita rohkem turunõudlusi ja pikaajalist arengut, on ehitamisel 150 000 ruutmeetri suurune uus tehas, mis kavatsetakse kasutusele võtta 2014. aastal. Siis on meil suur tootmisvõimsus. Muidugi jätkame teenindussüsteemi täiustamist, et vastata klientide nõuetele, tuues kõigile tervise, õnne ja ilu.

Tehnilised parameetrid

Silaan on räni ja vesiniku ühend. See on ühendite seeria, sealhulgas monosilaani (SiH4), disilaani (Si2H6) ja mõned kõrgema taseme ränihüdrogeeniühendite üldine termin. Nende hulgas on kõige levinum monosilan, mida mõnikord nimetatakse lühikeseks silaaniks. Silaan on värvitu gaas, millel on vastik küüslaugu lõhn. Lahustuv vees, peaaegu lahustumatu etanoolis, eetris, benseenis, kloroformis, räni kloroformis ja räni tetrakloriidis. Silanide keemilised omadused on palju aktiivsemad kui alkaanid ja on kergesti oksüdeerunud. Spontaanne põletamine võib tekkida õhuga kokkupuutel. See ei reageeri lämmastikuga alla 25 ° C ega reageeri toatemperatuuril süsivesinike ühenditega. Silaani tuli ja plahvatus on reaktsiooni tagajärg hapnikuga. Silaan on hapniku ja õhu suhtes äärmiselt tundlik. Teatud kontsentratsiooniga silaan reageerib ka hapnikuga plahvatuslikult temperatuuril -180 ° C. Silaanist on saanud kõige olulisem spetsiaalne gaas, mida kasutatakse pooljuhtide mikroelektroonikaprotsessides, ja seda kasutatakse mitmesuguste mikroelektrooniliste kilede, sealhulgas üksikkristallkilede, mikrokristallilise, polükristallilise, ränioksiidi, räni nitriidi ja metallisiidide valmistamisel. Silaani mikroelektroonilised rakendused arenevad endiselt põhjalikult: madala temperatuuriga epitaksia, selektiivne epitaksia ja heteroepitaksiaalne epitaksia. Mitte ainult räniseadmete ja räni integreeritud vooluahelate, vaid ka ühendi pooljuhtseadmete jaoks (gallium arseniid, räni karbiidi jne). Sellel on ka rakendusi Superlattice kvantkaevude materjalide valmistamisel. Võib öelda, et Silane kasutatakse tänapäeval peaaegu kõigis täiustatud integreeritud vooluahela tootmisliinides. Silaani rakendamine räni sisaldava kilena ja kattena on laienenud traditsioonilisest mikroelektroonikatööstusest erinevatesse valdkondadesse, nagu teraseks, masinad, kemikaalid ja optika. Veel üks potentsiaalne Silani rakendamine on suure jõudlusega keraamiliste mootorite osade tootmine, eriti Silaani kasutamine räniidi tootmiseks (Si3N4, SIC jne) mikropowder-tehnoloogia on pälvinud üha enam tähelepanu.

Rakendus:

①elektrooniline:

Silaan kantakse pooljuhtide tootmisel ja hermeetikutel polükristalliliste räni kihtide jaoks räni vahvlitel ja hermeetikutel.

②solaarne:

Silaani kasutatakse päikeseenergia fotogalvaanilise mooduli tootmisel.

③ Industrial:

Seda kasutatakse energiasäästlikus rohelises klaasis ja kantakse aurude sadestumise õhukese kileprotsessi jaoks.

Tavaline pakett:

Eelis:

① rohkem kui kümme aastat turul;

②iso sertifikaadi tootja;

③ kiire kohaletoimetamine;

④staabiline tooraineallikas;

⑤-line analüüsisüsteem kvaliteedikontrolli jaoks igal sammul;

⑥ kõrge nõue ja hoolikas protsess silindri käitlemiseks enne täitmist;

⑦Purvalisus: kõrge puhtusega elektrooniline klass;

⑧Kage: päikeseelementide materjalid; suure puhtuse polüsilikooni, ränioksiidi ja optilise kiu valmistamine; Värviline klaasi tootmine.Pole tähtis uus klient või eelmine klient, usume Hiina pikaajalisse ajaperioodi ja usaldusväärsetesse suhetesse 99,9999% kõrge puhtus Sih4 gaasSilaangaasPooljuhi sadestamise protsessi jaoks tervitame uusi ja vanu ostjaid, et meiega ühendust võtta telefoni teel või saadame USA järelepärimisi posti teel lähituleviku ühingutele ja vastastikuste saavutuste saavutamisele.
TehasehindHiina SIH4, Silane Gas, et täita rohkem turunõudeid ja pikaajalist arengut, ehitatakse 150 000 ruutmeetri suurune uus tehas, mis kavatsetakse kasutusele võtta 2014. aastal. Siis on meil suur tootmisvõimsus. Muidugi jätkame teenindussüsteemi täiustamist, et vastata klientide nõuetele, tuues kõigile tervise, õnne ja ilu.