Lasergaasi kasutatakse peamiselt elektroonikatööstuses laseri lõõmutamise ja litograafiagaasi jaoks. Mobiiltelefonide ekraanide innovatsioonist ja rakenduspiirkondade laienemisest laiendatakse veelgi madala temperatuuriga polüsilikoonituru skaalat veelgi ja laseri lõõmutamise protsess on TFT-de jõudlust märkimisväärselt parandanud. ARF -i eksimeerides laser pooljuhtide tootmiseks kasutatavate neooni-, fluori- ja argoonigaaside hulgas moodustab neoon enam kui 96% lasergaasi segust. Pooljuhtide tehnoloogia täpsustamisega on ekstsimeeride laserite kasutamine suurenenud ja kahekordse kokkupuutetehnoloogia kasutuselevõtt on toonud kaasa ARF -i eksimeeride laserite tarbitud neoongaasi nõudluse järsu suurenemise. Elektrooniliste spetsiaalsete gaaside lokaliseerimise edendamisest kasu saamisel on kodumaistel tootjatel tulevikus parem turu kasvupind.
Litograafiamasin on pooljuhtide tootmise põhiseadmed. Litograafia määratleb transistoride suuruse. Litograafiatööstuse ahela koordineeritud areng on litograafiamasina läbimurre võti. Sobivatel pooljuhtide materjalidel nagu fotoresistist, fotolitograafiagaasi, fotomaski ning katte- ja arendamisseadmetest on kõrge tehnoloogiline sisaldus. Litograafiagaas on gaas, mille litograafiamasin genereerib sügava ultraviolettlaseri. Erinevad litograafiagaasid võivad tekitada erineva lainepikkusega kergeid allikaid ja nende lainepikkus mõjutab otseselt litograafiamasina eraldusvõimet, mis on üks litograafiamasina tuumadest. 2020. aastal on litograafiamasinate kogukäive 413 ühikut, millest ASML -i müük 258 ühikut moodustasid 62%, Canoni müük 122 ühikut moodustasid 30%ja Nikoni müük 33 ühikut 8%.
Postiaeg: 15. oktoober-20121
