Professionaalne Hiina Hiina 99,999% kõrge puhtusega vesinikkloriidgaas

Meie edusammud sõltuvad täiustatud toodetest, fantastilistest annetest ja pidevalt tugevdatud tehnoloogiajõududest Hiina Hiina 99,999% kõrge puhtusega vesinikkloriidgaas, oodake minema meie ettevõttesse ja tootmisrajatisse. Kui vajate täiendavat abi, ei tohiks meiega ühendust võtta.
Meie edusammud sõltuvad täiustatud toodetest, fantastilistest annetest ja pidevalt tugevdatud tehnoloogiajõududestHiina HCl -gaas, Vesinikkloriid gaas, Järgides juhtimispõhimõtet „siiralt juhtimine, kvaliteedi järgi võidetud”, püüame oma parimate toodete ja teenuse pakkuda oma klientidele suurepäraseid tooteid. Ootame edusamme koos kodumaiste ja rahvusvaheliste klientidega.

Tehnilised parameetrid:

Vesinikkloriidil on keemiline valem HCl. Vesinikkloriidi molekul koosneb kloori aatomist ja vesiniku aatomist. See on terava lõhnaga värvitu gaas. Söövitav, mitte-põlvne gaas ei reageeri veega, vaid on vees kergesti lahustuv. See on õhus sageli vesinikkloriidhappe aurude kujul. Vesinikkloriid lahustub etanoolis ja eetris ning lahustub ka paljudes teistes orgaanilistes ainetes; Väga kergelt lahustuv vees, temperatuuril 0 ° C, võib 1 maht vett lahustada umbes 500 mahuga vesinikkloriidi. Selle vesilahust tuntakse tavaliselt kui soolhapet ja selle teaduslik nimi on vesinikkloriidhape. Kontsentreeritud vesinikkloriidhape on lenduv. Vesinikkloriid on värvitu, sulamistemperatuur -114,2 ° C ja keemistemperatuur -85 ° C. See ei põle õhus ja on termiliselt stabiilne. See ei lagune enne umbes 1500 ° C. Sellel on lämmatav lõhn, see on ülemiste hingamisteede ärritus ja see on söövitav silmade, naha ja limaskestade suhtes. Tihedus on suurem kui õhk. Kuiva vesinikkloriidi keemilised omadused on väga passiivsed. Leelisemetallid ja leeliselised maametallid võivad vesinikkloriidis põleda ja kui naatrium põleb, kiirgab see erekollast leeki. Vesinikkloriidi kasutatakse naftakeemiatööstuses katalüsaatorite tõhususe ja regenereerimise edendamiseks ning nafta viskoossuse suurendamiseks; Seda saab kasutada klorosulfoonhappe, sünteetilise kummi jms tootmiseks; Seda saab kasutada ka värvainete, lõhnaainete, ravimite sünteesi, mitmesuguste kloriidide ja korrosiooni inhibiitorite ning puhaste, marineerimise, elektrimise, päevitamise, rafineerimise, rafineerimise või tootmise valmistamiseks. Kõrgpuhustusega vesinikkloriidgaasi kasutatakse laialdaselt räni epitaksiaalses kasvus, aurufaasi poleerimisel, hetkimisel, söövitamisel ja puhastusprotsessidel elektroonikatööstuses.

Rakendus:

①materjal:

Enamikku vesinikkloriidi kasutatakse vesinikkloriidhappe tootmisel. See on ka oluline reagent teistes tööstuslikes keemilistes muundustes.

②Semonductor:

Pooljuhtide tööstuses kasutatakse seda nii pooljuhtide kristallide söövitamiseks kui ka räni puhastamiseks triklorosilaani (Sihcl3) kaudu.

③laboratoorne:

Laboris on gaasi veevaba vormid eriti kasulikud kloriidipõhiste Lewise hapete genereerimiseks, mis peab olema nende Lewise saitide toimimiseks absoluutselt kuiv.

Tavaline pakett:

Eelised:

① kõrge puhtus, uusim rajatis;

②iso sertifikaadi tootja;

③ kiire kohaletoimetamine;

④-line analüüsisüsteem kvaliteedikontrolli jaoks igal sammul;

⑤ kõrge nõue ja hoolikas protsess silindri käitlemiseks enne täitmist;Meie edusammud sõltuvad täiustatud toodetest, fantastilistest annetest ja pidevalt tugevdatud professionaalse Hiina tehnoloogiajõududest 99,999% kõrge puhtusega vesinikkloriidi HCL Gas. Tere tulemast meie ettevõttesse ja tootmisrajatisse. Kui vajate täiendavat abi, ei tohiks meiega ühendust võtta.
Professionaalne HiinaHiina HCl -gaas, vesinikkloriidgaas, järgides juhtimispõhimõtet „siiralt juhtimise, kvaliteedi võidu”, püüame oma parima, et pakkuda oma klientidele suurepäraseid tooteid ja teenust. Ootame edusamme koos kodumaiste ja rahvusvaheliste klientidega.